产品介绍
产品介绍
硅铝靶:
纯度: ≥ 99.9%
成型工艺: 喷涂
应用:用于低辐射玻璃镀膜、太阳能电池镀膜、触摸屏镀膜、stn/tn/tft-lcd等镀膜行业及电子封装材料
包装:木箱
铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种,是高纯铝经过系列加工后的产品,具有特定的尺寸和形状高纯铝材料,安装在真空镀膜机上,溅射成膜。
适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等,可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等,相对其它靶材,铝靶材的价格较低,所以铝靶材是在能满足膜层的功能前提下的靶材料。